マ ス ク 作 成 検 証 シ ス テ ム 仕 様

1 マスク原板作成システム

2 電子線描画システム JBX-7000SB

3 湿式現像伝写システム

4 乾式転写システム

5 洗浄システム

6 パターン検証システム

1 マスク原板作成システム

1-1 スピンコーター SC-400

以下の性能を有します :

項目	仕様
試料台	1
回転数	60〜6000rpm
回転段数	2段

化学排気系に接続されたドラフト内に設置します。

1-2 スパッタリング装置 JEC-SP360

以下の性能を有します:

項目	仕様
方式	高周波スパッタりング
	3ターゲット
ターゲットサイズ	4インチ x 3
膜厚分布	±10% (有効範囲 Φ70mm）
基板加熱	600℃(max)
最大基板サイズ	4インチ

ターポ分子ボンプがつきます

1-3 オーブン DNF-44

温度範囲 : 30〜260℃

5インチ角の基板が充填可能です．

排気設備を備えています．

2 電子線描画システムJBX-7000SB

• 描画性能
  
  

  項目	仕様
  パターン寸法打度	0.04um(3δ)
  X - Y寸法差	0.04um
  線幅リニアリティー	0.05um
  フィールド接合精度	±0.05um
  長寸法精度	±0.05um
  層間重ね精度	±0.05um
  最小線幅	0.5um

  
  
• 描画機能
  
  

  項目	仕様
  加速電圧	20KV
  電流密度	2A/cm2(max)
  操作フィールド	1.5mm x 1.5mm(max)
  描画範囲	165mm x 165mm(max)
  オートローダー	12枚(max)
  スケーリング機能	アナログスケーリング(100-75%)

  
  
• 試料サイズは3インチから7インチ角マスク原板および3インチから7インチφウエハを処理できます。
  
• 描画は矩形ビームを用いて行います。
• 描画制御用にミニコンビュータ(VAX-4000)を用いています．
• 設計データから描画データに変換するために、上記のワークステーションとは 独立したワークステーション(alpa station600)をもち、ネットワークを通じて上記ワークステーションへデータを転送できます。
• GDSIIフォーマットを描画用デークに高速に変換できます。
• デークフォーマット変換用および描画用ワークステーションの性能はSpec/int92で290以上を有します。
• データ変換ソフトウエアはフローティングライセンスとし、5セット付属します。

3 湿式現像伝写システム

3-1 湿式現像機能 APT3150

・試料サイズは3、4、5、6、7インチ角マスク原板および3,4,5,6, 7インチφウエハを処理できます。

・排気設備を備えています。

・現像、リンス、乾燥が自動で連続処理できます．

3-2 湿式転写技能 APT1140

・試料サイズは3、4、5、6、7インチ角マスク原板および3、4、5、6、7インチφウエハを処理できます。

・エッチング、リンス、乾燥が自動で連続処理できます。

4 乾式転写システム L451

• 以下の性能を有します
  
  

  項目	仕様
  試料サイズ	5インチ角
  エッチングチヤンバ	φ450xH250
  電極	φ280エッチング電極
  	φ350x3t対向電極
  RF出カ	500W(13.62MHZ)
  MFCコントローラー	4系統(200SCCM)
  均一度	±10%以下

  
  
• ロードロックタイプです。
• 装置は全て耐ハロゲンガス仕様で、塩素ガス除外装置がついています。
• ロータリーポンプには循環式のフィルターを用い，オイル精製装置をつけます。
• 有害ガスにガス警報装置を付けます。
• クーボ分子ボンプを付けます。
• 使用するガスを収納するボンべキャビネットを設置します，

5 洗浄システム

5-1 洗浄装置

・試料サイズは3、4、5、6、7インチ角マスク原板および3、4、5、6、7インチφウエハを処理できます

・硫酸洗浄，スクラブ洗浄、すすぎ洗浄、スピン乾燥を自動連続処理できます

5-2 アッシング洗浄装置 PAC-1

・試料サイズは3、4、5、6、7インチ角マスク原板および3、4、5、6、7インチφウエハを処理できます

・MFCコントローラは2系統つきます。

・高速処理性能を有します。

5-3 超純水製造装置RFG40

・180KQm以上の抵抗率を持つ純水を水道水から毎分1リッター以上精製できます

6 パターン検証システム 1LM21

6-1 レーザー顕微鏡

・以下の性能を有します

項目	仕様
解像カ	0.25um
光源	He-Neレーザー
走査速度	水平 15.73KHz 垂直 60Hz
最小測定単位	0.001um
寸法測定精度	±0.03um
ガンマ補正機能	有り

・構成は走査レーザー顕微鏡，電動ステージ、防振台、モニターです。

・パターン測長を行うための3次元画像ソフトウエア備えています

・ステピングモータを使い±2umの精度でステージが移動できます。

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