東京大学VDEC D2Tシンポジウム2012

2012年2月10日(金) 10:00-17:00
東京大学　武田先端知ビル　5階　武田ホール

更新情報：
・ホームページを開設しました。(2011/12/5)

主催	東京大学大規模集積システム設計教育研究センター(VDEC)
後援	株式会社アドバンテスト
協賛	(社)電子情報通信学会 (社)情報処理学会 (社)電子情報技術産業協会 IEEE SSCS Japan Chapter LSIテスティング学会東京大学グローバルCOE「セキュアライフ・エレクトロニクス」
参加費	無料

東京大学大規模集積システム設計教育研究センター内に株式会社アドバンテストからの寄附による「アドバンテストD2T寄附研究部門」が設立され4年間が経過いたしました。本寄付研究部門の最近の成果報告としてシンポジウムの開催を企画致しました。本シンポジウムでは、LSIのテストに関連した半導体自動テスト装置(ATE)関連の講演に加えて、電子線露光装置を用いたリソグラフィー技術、MEMS応用などの講演を予定しています。
本シンポジウムでは、本研究部門の研究成果報告のみではなく、国内外の著名な研究者の招待講演を企画しておりますので、多くの方の参加をお待ちしております。

参加申込（参加費：無料）

こちらからお申し込みください。(申し込みを終了しました。)

アクセス方法

こちらをご覧ください。

http://www.vdec.u-tokyo.ac.jp/Guide/access.html

シンポジウムプログラム (英語版, English version)

10:00	開会の挨拶
	東京大学大規模集積システム設計教育研究センター長浅田邦博
10:15	D2T寄付研究部門の最近の活動
	Recent Activities of D2T Research Division Satoshi Komatsu (University of Tokyo)
10:30	Session 1
	3D TSV Test: Myths, Challenges, and Solutions Erik H. Volkerink (Verigy US Inc. _ Advantest Group)
	Application of a Continuous-Time Level Crossing Quantization Method for Timing Noise Measurements Takahiro Yamaguchi (Advantest Laboratories)
11:50	昼食
13:00	Session2
	Electron beam lithography: history, issues, and challenges Masaki Yamabe (Fujitsu Semiconductor Ltd.)
	EB Direct Writing Technology for Device Production with Character Projection Function Takashi Maruyama (e-Shuttle Inc.)
	Nanotechnet club: Ultra-short turn-around-time MEMS Research by EB Direct Writing Environment in Takeda Cleanroom Yoshio Mita (University of Tokyo)
15:00	休憩
15:30	Session 3
	High-speed digital I/O characterization with ATE: is there a future? Jose-Antonio Moreira (Verigy, Advantest Group)
	Real-Time Testing Method for High-Speed Multi-Level Signal Interface Masahiro Ishida (Advantest)
16:50	閉会
17:00	懇親会

お問い合わせ

東京大学大規模集積システム設計教育研究センターアドバンテストD2T寄附研究部門
〒113－0032　東京都文京区弥生2－11－16　武田先端知ビル404号室
Tel: 03-5841-0233 FAX: 03-5841-1093
E-mail: komatsu@vdec.u-tokyo.ac.jp